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MSK-NFES-3C靜電紡絲機（靜電紡絲）可應用于生物高分子、通用高分子、預聚體納米纖維制備，高分子共混物納米纖維的制備，具有納米孔洞、納米顆粒、納米珠串結構的表面或薄膜的制備。$n $n 免責聲明：本站產品介紹內容（包括產品圖片、產品描述、技術參數等）僅供參考。可能由于更新不及時和不可預知的BUG造成數據與實物的偏差。如果您對參數有異議，或者想了解產品詳細信息，請與本公司銷售人員。
VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀，針對于高通量MGI（材料基因組計劃）薄膜的研究。特別適合用于探索固態電解質材料，通過5種元素，按16種不同配比組合。
火焰輔助噴霧熱分解涂覆 has been developed for research in surface quality improvement of metallic alloys and ceramics. In this technique, solution is sprayed on to a heated substrate through an oxygenacetylene
超聲波霧化模塊是利用超聲波能量將液體或是膠狀法分散成微米級的顆粒，其特點為霧粒噴出的初速度較小，且分散的霧粒尺寸較均勻。MSK-SP-01A就是一超聲霧化模塊，含有130W，40KHz的超聲波源，客戶可自行搭建超聲霧化制膜設備。
雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀，其中一個靶頭采用直流（DC）濺射，可濺射金屬靶材制備金屬膜，另一個采用射頻（RF）濺射，可濺射金屬和氧化物靶材，制備金屬或氧化物膜.設備上安裝有薄膜測厚儀可以實時監測薄膜的厚度。此設備可制作各種單層或多層薄膜，如鐵電、導電，合金，半導體，陶瓷，介電，光學，氧化物和PTFE薄膜等。而且設備體積較小操作方便，是一套理想的實驗工具。
直流等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的直流（DC）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統，系統中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜，它是一款物美價廉的實驗手。
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